img28 ноября 2024 в 15:36

Минпромторг замещает импортное оборудование для производства микросхем 65 нм

Министерство промышленности и торговли РФ объявило открытый конкурс на опытно-конструкторские работы (ОКР) по разработке оборудования для производства интегральных схем (ИС) с топологическими нормами до 65 нм. Соответствующую информацию корреспондент «Телеспутника» обнаружил в базе госзакупок.

Министерство промышленности и торговли РФ объявило открытый конкурс на опытно-конструкторские работы (ОКР) по разработке оборудования для производства интегральных схем (ИС) с топологическими нормами до 65 нм. Соответствующую информацию корреспондент «Телеспутника» обнаружил в базе госзакупок.

Полностью название закупки звучит как «ОКР “Разработка и освоение производства гелий-неоновых лазеров и фотоприёмников для систем позиционирования оборудования, применяемого в производстве ИС с топологическими нормами до 65 нм”, шифр “Прогресс-Позиция”». Информацию о ней разместили 22 ноября. Сроком окончания подачи заявок указывается 9 декабря. Начальная (максимальная) цена контракта составила 175 млн рублей.

Комплект, разработку которого проведёт подрядчик, предназначается для замены лазеров модели 5517C и фотоприёмников моделей E1709A и 10780F производства американской компании Keysight в зарубежном оборудовании, а также в действующем и разрабатываемом отечественном оборудовании, применяемом в производстве ИС (интегральных схем) с проектными нормами до 65 нм.

В списке оборудования, в котором планируется использовать импортозамещённые лазеры и фотоприёмники, указываются литографические степперы и сканеры Nikon, метрологические РЭМ (машины испытательные универсальные) для контроля критических размеров Hitachi, установки контроля дефектности на п/п пластинах AMAT Compass, установки лазерного устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах, установки электронно-лучевой литографии.

Система позиционирования оборудования предназначается для чёткого наложения слоёв на фотошаблон при производстве интегральных схем (микросхем). При этом зазор, с которым накладываются слои, значительно меньше, чем необходимые 65 нм. В такой работе важна высокая точность.

Ранее представитель АО «Микрон» рассказал «Телеспутнику» о разработке отечественных фотолитографов с топологическими нормами 350-90 нм.

Подписка на рассылку

Подпишитесь на рассылку, чтобы одним из первых быть в курсе новых событий